Jednostopniowe urządzenie do oczyszczania wody metodą odwróconej osmozy i EDI z zaawansowaną technologią filtracji

Podstawowe wymagania: woda o wysokiej czystości, aby zapobiec zanieczyszczeniu precyzyjnych elementów jonami, cząstkami i substancjami organicznymi.

• Procesy czyszczenia, grafowania i fotolitografii chipów półprzewodnikowych
• Produkcja komponentów elektronicznych (kondensatory, rezystory)
• Produkcja płyt LCD i paneli słonecznych (oczyszczenie podłoża, przygotowanie powłok)

Podstawowe wymagania: Oczyszczona woda spełniająca normy farmakopei (Chińska farmakopeja, USP).

• Woda do wstrzykiwań i preparaty płynne doustne
• Procesy biotechnologiczne (fermentacja, produkcja szczepionek)
• Sprzęt medyczny (maszyny dialityczne)

Podstawowe wymagania: Niska twardość, niska zawartość jonów w wodzie w celu zapobiegania skalowaniu i korozji sprzętu.

• Oczyszczanie wody z kotła (instalacje termiczne/atomowe)
• Oczyszczanie wody chłodzącej turbiną parową i kondensatorem

Podstawowe wymagania: woda o wysokiej czystości jako medium reakcji w celu utrzymania czystości produktu.

• Produkcja produktów farmaceutycznych pośrednich i katalizatorów
• Nanomateriały i preparaty elektrolitowe z akumulatorów litowych
• Zastosowania laboratoryjne analityczne

Podstawowe wymagania: Oczyszczona woda spełniająca normy bezpieczeństwa żywności, wolna od mikroorganizmów i zanieczyszczeń.

• Produkcja napojów (czysta woda, soki, piwo)
• Czyszczenie sprzętu przetwórstwa żywności i mleka
• Przygotowanie dodatków do żywności

Podstawowe wymagania: ultraczysta woda do wysokiej precyzji eksperymentów i analiz.

• Laboratoria uniwersyteckich i instytucji badawczych
• Monitorowanie środowiska i badania jakości wody
• Zastosowania badań medycznych

• Następna obróbka do odsalania wody morskiej/słonnej
• Produkcja kosmetyków (emulsje, esencje)
• Procesy produkcyjne w branży motoryzacyjnej